Lasernanobearbeitung

	Interferenzfarben
	DOE
	Nano-Ripple

Die Lasernanobearbeitung in vertikaler Richtung wird am Institut durch das Verfahren PLD schon seit langer Zeit untersucht. Standen zu Beginn dielektrische Schichtsysteme im Vordergrund werden nunmehr extrem präzise Metall­schicht­stapel abgeschieden. Seit am Institut Ultra­kurz­puls­laser verfügbar sind wird auch die laterale Strukturierung untersucht.

Erfahrungen im Bereich der Laser­nano­bearbeitung existieren insbesondere auf den Gebieten:

• Nanometergenaue vertikale Schichtabscheidung mit PLD
  • dielektrische Schichtstapel aus oxidischen Materialien
  • metallische Schichtstapel
• Nanometergenauer vertikaler Schichtabtrag mit Excimer- und fs-Laser
• Laterale Strukturierung mit fs-Laser
  • Erzeugung von Nanoripple, auch großflächig
  • Sub-µm Strukturierung (Abtragen, Bohren) von extrem dünnen Schichten
• Generierung von Nanotubes mit PLD und von Nanowires mit fs-Lasermikrosintern

Die Nanotechnologien finden Anwendung z.B. in der Abscheidung und Strukturierung von extrem präzisen Metall­schicht­stapeln für spintronische Anwendungen. Die Erzeugung von diffraktiven optischen Elementen (DOE) erfolgt durch den nanometer­genauen Abtrag von optisch wirk­samen Oberflächen. In Verbindung mit Hochrate-Technologien ist auch die groß­flächige Nano­strukturierung mit fs-Laserstrahlung möglich. Dadurch können Oberflächen physikalisch "eingefärbt", wasserabweisend gestaltet oder die Reibung gemindert werden.

Koordinator: Dipl.-Phys. Robby Ebert

Abschlussberichte

Beispiele und Veröffentlichungen